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根據《TechNews》援引 Wccftech 報導，英特爾近日決定將向荷蘭 ASML 採購的 High-NA EUV 光刻機 從一台增加至兩台，凸顯其對 14A（1.4 奈米）製程節點的高度投入與背水一戰姿態。由於 High-NA EUV 被視為突破傳統 EUV 技術物理瓶頸的關鍵工具，這一舉動立即引發產業高度關注。
資金挹注推動製程豪賭
ASML 的 High-NA EUV 光刻機不僅產能極度稀缺，每年僅能交付五至六台，單台售價更高達 3.7 至 3.8 億美元。能負擔此等設備的，僅限於台積電、三星、SK 海力士與英特爾等全球少數巨頭。英特爾此次擴大採購，背後仰賴外部資金支持。2025 年，英特爾分別獲得 輝達（NVIDIA）50 億美元與 軟銀（SoftBank）20 億美元的戰略投資，強化現金流與資本支出能力，才得以確保 ASML 的初期產能名額。
這筆投資不僅是英特爾的製程豪賭，更是產業與資本市場的共演。若 14A 製程能成功量產，英特爾有望重返先進節點舞台，吸引更多晶圓代工客戶；但若市場採納不足，公司高階製程與 Intel Foundry Services（IFS） 事業恐將受到重創。（原文出處）
