6
美國總統與歐盟委員會週早簽署最新貿易協定，對絕大多數歐洲製品徵收15%進口關稅，但半導體製造設備如ASML光刻機、檢測儀器等，皆獲「零對零」關稅豁免，維持原價進口（Tom’s Hardware）。若ASML設備遭徵稅，將使一台DUV系統增價約1300萬美元，EUV系統可能高達4000萬美元，對Intel、三星、TSMC等企業建廠成本構成重大壓力。
好消息與技術發展並進
此外，ASML已出貨首台EXE‑5200高NA EUV設備給Intel，用於其14A製程。這標誌著高數值孔徑（High‑NA）EUV正式進入量產階段，預計2027年風險設計啟動，2028年進入量產。Intel也成為首家公開導入該系統的客戶。
此協議體現美歐戰略合作在半導體領域的重要性—即使在高關稅壓力下，仍維持核心設備流通順暢。不僅減少成本負擔，也為推進美國先進製造提供政策支撐。同時，ASML正式量產高NA EUV系統，顯示最先進製程進入商用階段，而Intel積極部署則可能搶得性能優勢。未來台積電與三星採用時程不確定，Intel有機會扮演先行者角色，領先建立下一世代晶片製造能力。（原文出處）
延伸閱讀
